Wafer Temperature Control System During Etching Process

1) Advanced temperature control and optimization: Modern etching technology has increasingly higher requirements for temperature control, especially in nanoscale processes. Wafer temperature measurement technology can not only monitor temperature changes on the wafer surface in real time, but also compare these data with a preset temperature range to achieve more precise temperature control. This precise control minimizes the impact of temperature fluctuations on the etching process and improves the consistency and repeatability of etching results.

2) Thermal compensation during high-temperature etching: Some etching processes need to be performed at high temperatures to achieve specific material removal or structure formation. In this case, wafer temperature measurement becomes particularly important because temperature changes in the wafer at high temperatures may affect etch rates, etch profiles, and other critical parameters. By monitoring the wafer surface temperature in real time, the etching machine can dynamically adjust the heating and cooling system to ensure the stability and consistency of the high-temperature etching process.

3) Optimization of multi-layer film etching process: In integrated circuit manufacturing, the multi-layer film etching process requires more precise temperature control. Wafer temperature measurement technology can monitor temperature changes at different stages of the etching process and adjust etching parameters based on these changes. This helps avoid uneven etching or structural distortion caused by temperature differences between different materials.

4) Improved safety and reliability: Wafer temperature measurement can not only be used to optimize the etching process, but also help prevent overheating, thereby ensuring the integrity of the etching machine and products during the production process.

5) Intelligent etching process optimization: Combining machine learning and artificial intelligence technology, wafer temperature measurement data can be used to develop intelligent etching process optimization algorithms. Based on historical temperature data and etching results, the system can automatically adjust etching parameters to achieve higher efficiency and better product quality.

Wir bieten die Entwicklung und Herstellung kompletter Temperaturkontrollsysteme an. Von Standardmodellen bis hin zu kompletten kundenspezifischen Produkten. Wir haben uns auf den Kundenservice spezialisiert und sind bestrebt, jedem Kunden zu helfen, das optimale Temperaturkontrollsystem für seinen spezifischen Bedarf zu finden.

Wir bieten maßgeschneiderte Lösungen, die nicht dem Standard entsprechen. Es sind sowohl einzelne Kühlaggregate als auch kombinierte Kühl- und Heizaggregate erhältlich.

E-Mail: lilia@lneya.com    WeChat ID: +8615251628237    WhatsApp: +86 17851209193

TES-Reihe (Benutzerdefinierte Designs)

Geeignet für die präzise Temperaturkontrolle von elektronischen Bauteilen. Bei der Herstellung von elektronischen Halbleiterkomponenten für raue Umgebungen umfassen die Phasen der IC-Gehäusemontage sowie der Entwicklungs- und Produktionstests auch elektronische Wärmetests und andere Simulationen von Umwelttests.

LTS-Serie (fluorierte Flüssigkeit) (Benutzerdefinierte Designs)

Weit verbreitet in der Halbleiterfertigung zur Regelung der Temperatur der Reaktionskammer, der Temperatur der Wärmesenke und der Temperaturregelung der nicht brennbaren Flüssigkeit des Wärmeträgers.

FLT-Reihe (Benutzerdefinierte Designs)

Das Halbleiter-Temperaturregelungssystem Chiller wird hauptsächlich für die präzise Temperaturregelung in der Halbleiterproduktion und im Testprozess verwendet. Er wurde speziell für die Halbleiterindustrie entwickelt und konstruiert.

FLT Multi Channel Temp Contol (Benutzerdefinierte Designs)

Multi channel independent temperature control, which can have a separate temperature range, cooling and heating capacity, thermal conductivity medium flow rate, etc., adopts two independent systems. According to the required temperature range, steam compression refrigeration or ETCU non compressor heat exchange system can be selected. The system can be used for universal expansion tanks, condensers, cooling water systems, etc., which can effectively reduce equipment size and operation steps.

FLTZ-Serie Frequenzumwandlung (Benutzerdefinierte Designs)

Die Temperaturregelung, die Umwälzpumpe und der Kompressor werden alle durch Frequenzumwandlung eingestellt.

ETCU-Reihe (Benutzerdefinierte Designs)

Art des Wärmeaustauschs

System ohne Kompressor

MD-Thermofutter-Serie (Benutzerdefinierte Designs)

Es wird für die Prüfung von HF-Bauteilen und Leistungsbauteilen mit hoher Dichte (IGBTs und MOSFETs) verwendet und kann auch für die schnelle Kühlung von flachen Laborplatten (Plasma, biologische Produkte, Batterien) usw. eingesetzt werden.

Strahlenschlagprüfmaschine der Serie AES

(Benutzerdefinierte Designs)

Temperaturregelbereich: -120°C ~ +225°C

AI-Serie Umluft-Temperaturregelsystem

(Benutzerdefinierte Designs)

Temperaturregelbereich: -105°C ~ +125°C

LQ Serie Gas-Kühlsystem

(Benutzerdefinierte Designs)

Temperaturregelbereich: -110°C ~ -40°C

YQH Serie VOCs Abgaskondensationsrückgewinnungsgerät

(Benutzerdefinierte Designs)

Angewandt auf die Rückgewinnung von Gaskondensation und Verflüssigung. Die Abgase oder andere elektronische Gase werden über den Saugzugventilator (Vakuumpumpe) an das Gerät angeschlossen, verflüssigt, gesammelt und durch Absenken der Temperatur in den Sammelbehälter abgeschieden, und andere Gase werden abgeleitet, um die Kondensation, Erfassung und Rückgewinnung des Gases zu realisieren.

Baureihe ZLJ / SLJ (Benutzerdefinierte Designs)

Er ist für Orte geeignet, an denen die Wärmeaustauschfläche des Wärmetauschers klein, die Wärmeaustauschkapazität jedoch groß ist. Das Kältemittel wird direkt in den Ableiter geleitet, um zu verdampfen, und das Gas im Raum wird durch den Kondensationseffekt an der Oberfläche des Ableiters schnell aufgefangen.