Chemical Reactor Temperature Control Systems

Chemical Reactor Temperature Control Systems

Chemical Reactor Temperature Control Systems is a kind of cooling and heating equipment for matching reactors, which can provide reaction environments under various temperature and pressure conditions, and meet the needs of laboratories for various chemical reactions and material synthesis to a large extent. Below are some common applications for this device.

1. Chemical reaction

During the chemical reaction, the absorption and heat generation of the reactants will cause changes in the temperature and pressure inside the reactor. Chemical Reactor Temperature Control Systems can control and stabilize different reaction temperatures, and can also provide support for some chemical reactions that require high pressure, such as hydrogenation reactions. In addition, the substances produced after the reaction can also be collected by cooling at low temperature, so that the reaction process can be controlled.

2. Material synthesis

Chemical Reactor Temperature Control Systems organically combines the process of high-temperature and low-temperature kettles, which can make the temperature range of material synthesis wider, and can synthesize materials with different properties under different temperature conditions and reaction media. For example, it can be used to synthesize high-performance materials such as alumina powder and thermoplastic resin, and has a wide range of application values in its production and research and development process.

3. Microbiological research

Chemical Reactor Temperature Control Systems are also commonly used in microbiological research, such as fermentation, ion exchange, preparation of colloids, growth of microorganisms, etc. Especially in the preparation of high-value compounds, using this device can synthesize a large number of microbial products under more efficient conditions.

To sum up, Chemical Reactor Temperature Control Systems is a multifunctional chemical reaction equipment that can meet the needs of laboratories for chemical reactions and material synthesis at different temperatures and pressures, and can also be used for microbiological research.

ダイナミック温調システム（カスタマイズ対応）               

冷暖房システム (SUNDIシリーズ) (カスタムデザイン)

温度制御範囲：-120°C～+350°C

用途各種リアクター（マイクロチャンネル、ガラス、ジャケット付きリアクターなど）、蒸留または抽出システム、研究室、大学、研究所、航空宇宙、自動車産業、半導体および電気テスト、化学、製薬、石油化学、生化学、医療、病院、研究開発ワークショップ、航空宇宙、生物学およびその他の産業。

冷暖房システム（WTDシリーズ） (カスタムデザイン)

（マイクロチャンネル・チューブリアクター特化型）

温度制御範囲：-70℃～+300

マイクロ流路に特化した設計（液体保持容量が小さく、熱交換容量が大きく、循環システムの圧力損失が高い）

冷暖房システム (TESシリーズ) (カスタムデザイン)

温度制御範囲: -85°C ~ +250°C

温度制御精度： ± 0.3°C

冷却・加熱装置（LTSシリーズ） (カスタムデザイン)

温度制御範囲：-80°C～+80°C

半導体プロセスにおいて、反応チャンバー、ホットシンクプレート、不燃性熱媒体の温度制御に広く使用されています。

冷暖房サーキュレーター (カスタムデザイン)

温度制御範囲：-45℃～+250

用途各種リアクター（マイクロチャンネル、ガラス、ジャケット付きリアクターなど）、蒸留または抽出システム、研究室、大学、研究所、航空宇宙、化学、製薬、石油化学、生化学、医療、病院、研究開発ワークショップ、航空宇宙、生物学、その他の産業。

加熱サーキュレーター (カスタムデザイン)

温度制御範囲+50℃〜+300

注：UCシリーズは熱媒体の温度を制御することができる。USTシリーズは熱媒の温度を制御できるだけでなく、反応材料の温度も制御できます。

TCU マルチリアクター温度制御システム (カスタムデザイン)

温度制御範囲：-120°C～+250°C

用途各種リアクター（マイクロチャンネル、ガラス、ジャケット付きリアクターなど）、蒸留または抽出システム、研究室、大学、研究所、航空宇宙、化学、製薬、石油化学、生化学、医療、病院、研究開発ワークショップ、航空宇宙、生物学、その他の産業。