Heating and Cooling Chiller

Heating and Cooling Chiller

The heating and cooling chiller adopts a fully closed cycle. It will not generate oil mist at high temperature and will not absorb water at low temperature. There is an expansion tank in the system. During the cooling and heating process, the heat transfer medium expands with heat and contracts with cold. It has a thermodynamic temperature control system. A series of functions meet high requirements, technology guarantees high precision of temperature control and good repeatability of results, short heating and cooling time, wide temperature range, simple navigation menu, important parameters at a glance, and real-time temperature changes are displayed in the form of graphs, ensuring Stable circulation and flow prevent damage to glass reactors caused by soft starts.

The main function of heating and cooling chiller is used for heating and cooling of glass reactors, metal reactors, and bioreactors. It is especially suitable for linear control of the temperature of materials in the reactor when there is a need for heat and exothermic process control during the reaction process. You can choose In the program control mode, the temperature difference between the heat transfer medium and the material can also be set.

There are two main control principles of heating and cooling chiller:

1. The method of changing the control setting value can respond to the system lag in the process as soon as possible and obtain a smaller system overshoot. The control consists of two sets of PID control loops, which are called the main loop and the slave loop, and the control output of the master loop is used as the set value of the slave loop. The system adopts feed-forward PV, the output of the PID operation result of the main control loop is compounded with the feed-forward PV signal as the set value of the slave control loop, and through this gradient control of temperature changes, the temperature control accuracy of the system is guaranteed.

2. The hysteresis estimator generates a dynamic signal instead of the process variable as the feedback signal. Generate a signal to the controller, so that the controller does not have a large delay in predicting the control effect, so that the controller can always generate an appropriate control signal. That is, this dynamic signal keeps the feedback loop working properly even in the presence of large hysteresis. However, if the general PID is used to control the process with significant time lag, the controller output will keep increasing during the lag time due to the lack of proper feedback signal, which will lead to a large overshoot of the system response and even make the system out of control.

カスタマイズされたソリューション

冷暖房システム (SUNDIシリーズ)

温度制御範囲：-120°C～+350°C

用途各種リアクター（マイクロチャンネル、ガラス、ジャケット付きリアクターなど）、蒸留または抽出システム、研究室、大学、研究所、航空宇宙、自動車産業、半導体および電気テスト、化学、製薬、石油化学、生化学、医療、病院、研究開発ワークショップ、航空宇宙、生物学およびその他の産業。

冷暖房システム（WTDシリーズ）

（マイクロチャンネル・チューブリアクター特化型）

温度制御範囲：-70℃～+300

マイクロ流路に特化した設計（液体保持容量が小さく、熱交換容量が大きく、循環システムの圧力損失が高い）

冷暖房システム (TESシリーズ)

温度制御範囲: -85°C ~ +250°C

温度制御精度： ± 0.3°C

冷却・加熱装置（LTSシリーズ）

温度制御範囲：-80°C～+80°C

半導体プロセスにおいて、反応チャンバー、ホットシンクプレート、不燃性熱媒体の温度制御に広く使用されています。

冷暖房サーキュレーター

温度制御範囲：-45℃～+250

用途各種リアクター（マイクロチャンネル、ガラス、ジャケット付きリアクターなど）、蒸留または抽出システム、研究室、大学、研究所、航空宇宙、化学、製薬、石油化学、生化学、医療、病院、研究開発ワークショップ、航空宇宙、生物学、その他の産業。

加熱サーキュレーター

温度制御範囲+50℃〜+300

注：UCシリーズは熱媒体の温度を制御することができる。USTシリーズは熱媒の温度を制御できるだけでなく、反応材料の温度も制御できます。

TCU マルチリアクター温度制御システム

温度制御範囲：-120°C～+250°C

用途各種リアクター（マイクロチャンネル、ガラス、ジャケット付きリアクターなど）、蒸留または抽出システム、研究室、大学、研究所、航空宇宙、化学、製薬、石油化学、生化学、医療、病院、研究開発ワークショップ、航空宇宙、生物学、その他の産業。