原子炉温度制御システム ヒーター チラー

Reactor Temperature Control System

Reactor Temperature Control System is a cooling and heating temperature control system, which is suitable for the overall solution of cooling and heating in the fields of medicine, chemical industry, light industry, new energy, semiconductor, fine chemical industry and so on.

Experimental equipment is widely used in pharmaceutical, chemical and other industries, including reactors, drying equipment, mixing equipment, separation equipment, heat transfer equipment, pressure vessels, etc. The Reactor Temperature Control System can accurately control temperature and support various reactions, separations, heating, cooling, etc. The equipment has been widely used in the pharmaceutical field, including dynamic constant temperature control of cold and heat sources in high pressure reactors, dynamic constant temperature control of cold and heat sources in double glass reactors, dynamic constant temperature control of cold and heat sources in double reactors, and constant temperature control of cold and heat sources in microchannel reactors , small constant temperature control system, temperature control of steaming system, low temperature and high temperature aging test of materials, constant temperature control of chemical cold source, cooling and heating of semiconductor equipment, constant temperature control of vacuum chamber cooling and heating, etc.

The Reactor Temperature Control System features a fully enclosed tube design and efficient plate heat exchangers for lift and temperature controlled glass reactors, metal reactors and bioreactors. It is suitable for controlling thermal energy and exothermic process in the reaction process, equipped with a multi-functional alarm system, which can be displayed graphically through a 7-inch or 10-inch color touch screen. It can also be cooled directly from a high temperature of 200 degrees. At high temperatures, there is no need to pressurize, and there is no evaporation of heat-conducting media to achieve continuous temperature control of -30~200℃, -40~200℃, and -80~200℃.

Our company will improve and customize the equipment system according to the needs of different fields. At present, our equipment has been widely used in domestic universities, scientific research institutions and biochemical pharmaceutical companies. Our equipment also provides high value-added overall solutions for pharmaceutical companies and creates multiple values for users.

ダイナミック温調システム（カスタマイズ対応）               

冷暖房システム (SUNDIシリーズ) (カスタムデザイン)

温度制御範囲：-120°C～+350°C

用途各種リアクター（マイクロチャンネル、ガラス、ジャケット付きリアクターなど）、蒸留または抽出システム、研究室、大学、研究所、航空宇宙、自動車産業、半導体および電気テスト、化学、製薬、石油化学、生化学、医療、病院、研究開発ワークショップ、航空宇宙、生物学およびその他の産業。

冷暖房システム（WTDシリーズ） (カスタムデザイン)

（マイクロチャンネル・チューブリアクター特化型）

温度制御範囲：-70℃～+300

マイクロ流路に特化した設計（液体保持容量が小さく、熱交換容量が大きく、循環システムの圧力損失が高い）

冷暖房システム (TESシリーズ) (カスタムデザイン)

温度制御範囲: -85°C ~ +250°C

温度制御精度： ± 0.3°C

冷却・加熱装置（LTSシリーズ） (カスタムデザイン)

温度制御範囲：-80°C～+80°C

半導体プロセスにおいて、反応チャンバー、ホットシンクプレート、不燃性熱媒体の温度制御に広く使用されています。

冷暖房サーキュレーター (カスタムデザイン)

温度制御範囲：-45℃～+250

用途各種リアクター（マイクロチャンネル、ガラス、ジャケット付きリアクターなど）、蒸留または抽出システム、研究室、大学、研究所、航空宇宙、化学、製薬、石油化学、生化学、医療、病院、研究開発ワークショップ、航空宇宙、生物学、その他の産業。

加熱サーキュレーター (カスタムデザイン)

温度制御範囲+50℃〜+300

注：UCシリーズは熱媒体の温度を制御することができる。USTシリーズは熱媒の温度を制御できるだけでなく、反応材料の温度も制御できます。

TCU マルチリアクター温度制御システム (カスタムデザイン)

温度制御範囲：-120°C～+250°C

用途各種リアクター（マイクロチャンネル、ガラス、ジャケット付きリアクターなど）、蒸留または抽出システム、研究室、大学、研究所、航空宇宙、化学、製薬、石油化学、生化学、医療、病院、研究開発ワークショップ、航空宇宙、生物学、その他の産業。